daisukeishibashi2021年3月21日2 分第5回「必要な場所のみ、必要な温度にプログラムして加熱できます。」~局所でリフロー炉のような加熱プロファイルを実現〜第5回は局所でリフロー炉のような温度プロファイルを実現できることを紹介します。 IHはんだ装置は必要な場所のみを加熱できるだけでなく、必要な場所のみを期待する加熱プロファイルで温めることができる環境を提供しています。 【はんだ個所すべてを最適温度ではんだ付け】...
daisukeishibashi2021年3月15日2 分第4回「パッド、スルーホールが予熱される」第3回までに磁気集中器による加熱原理と周辺影響について説明してきました。磁束がワークを貫くことで磁束を打ち消す方向に渦状電流が流れ、この電流により自己発熱することを活用していることは前述のとおりです。 第4回は磁気集中器により、ワークへどのように磁束を貫かせているのか、その...
daisukeishibashi2021年3月7日1 分第3回「気になる、接近する周辺部品への影響は?」第3回は周辺部品への影響についてです。磁気集中器により磁束を発生させ、加熱していることは第2回で説明したとおりです。上図のとおり、磁気集中器のギャップへ金属端子(赤色部)を挿入して加熱していきます。上図では金属端子はすでに250℃以上に加熱された状態のサーモカメラの映像にな...